Galvántechnika

Galvántechnika

Elektrolitok galvanizálási célokra

Bel- és külföldi vevőink egyaránt elismerik galvanikus technológiáink kiváló teljesítményét, melyek kedvezőtlen körülmények között is optimális fémleválást eredményeznek. Az elektrolitok alkalmasak függesztett és dobáru galvanizálásához is.

Cianidos vörösréz elektrolit. Sűrű, finomkristályos és jól tapadó bevonatot eredményez, akár már vékony rétegvastagságnál is. Függesztett és dobáruhoz egyaránt alkalmazható.

Fényes vörösrézfürdő

Kénsavas, színezőanyag tartalmú rendszer. Magas fényű, egyenletes és duktilis bevonatot eredményez függesztett és dobáru esetén is.

Cikk Leírás
RUBIN F 2000színezőanyag-tartalmú, kétadalékos rendszer + indító adalék
RUBIN F 1000színezőanyag-tartalmú, egyadalékos rendszer + indító adalék
RUBIN T 200színezőanyag mentes és methanolmentes rendszer

Félfényes-nikkelelektrolit, kénsavmentes, a magas potenciálkülönbségnek köszönhetően az utána leválasztandó fényes nikkelrétegeknek rozsdaálló bevonatrendszert biztosít.

Fényesnikkel-elektrolit

Magas fényű, duktilis és kifejezetten egyenletes bevonatot hoz létre széles áramsűrűségű tartományban.

Cikk Leírás
ORION 3000+függesztett áruhoz, jó kiegyenlítési képességgel
ORION 4000függesztett áruhoz, kiváló kiegyenlítési képességgel
SIRIUSfüggesztett áruhoz, jó kiegyenlítési képességgel
POLARIS GT 10dobáru nikkelezéséhez
POLARIS GT 24dobáru nikkelezéséhez

Elektrolitok gyöngyház-hatású nikkelrétegekhez.

Cikk Leírás
MERKUR C diszperziós rendszer, több mint 105 g/l nikkel fémtartalommal
MERKUR D diszperziós rendszer, több mint 105 g/l nikkel fémtartalommal
MERKUR E finomdiszperziós rendszer, alacsony fémtartalommal
MERKUR G diszperziós rendszer, alacsony fémtartalommal
MERKUR H diszperziós rendszer, több mint 105 g/l nikkel fémtartalommal
MERKUR I diszperziós rendszer, több mint 105 g/l nikkel fémtartalommal
MERKUR K emulziós rendszer, fűtő-hűtő egységgel kombinálva
MERKUR L diszperziós rendszer, több mint 105 g/l nikkel fémtartalommal

Fényeskróm-elektrolitok

Cikk Leírás
SAPHIR 14hatértékű króm
SAPHIR 17hatértékű króm
SAPHIR 1038klorid bázisú, háromértékű króm rendszer
SAPHIR 2000szulfátbázisú, háromértékű króm rendszer

Feketekróm-elektrolit

Cikk Leírás
SAPHIR TSkiváló fedőképesség és rövid hatóidő

Kolloidos rendszer

Cikk Leírás
SURFAPLATE ET–KSkróm-/kénsavpác a kolloidos rendszerhez
SURFAPLATE Reductorhatértékű krómredukáló
SURFAPLATE Activator–KSkolloidos palládium aktiváló rendszer
SURFAPLATE Accelerator–KSaz ónkolloidok felbontásához szükséges katalizátor, savanyú
SURFAPLATE Accelerator–ALC az ónkolloidok felbontásához szükséges katalizátor, lúgos
SURFAPLATE EN 1000ammóniamentes vegyi nikkel eljárás
SURFAPLATE EN 3000ammóniatartalmú vegyi nikkel eljárás

Közvetlen fémbevonás

Cikk Leírás
SURFAPLATE ETKróm-/kénsavpác a közvetlen fémbevonáshoz
SURFAPLATE Reductorhatértékű krómredukáló
SURFAPLATE Activatormagas aktivitású palládium aktiváló a közvetlen fémbevonáshoz
SURFAPLATE Selectorelektromosan vezető mátrixot képez, melyre közvetlenül kerülhet a savas rézbevonat

Lúgos, cianidmentes horganyzási technológia. Kiváló szóróképesség, duktilis és feszültségmentes bevonatok; kitűnő rétegeloszlással. Topas 3100 Fe adalékunkkal cink-vas-elektrolitként alkalmazható.

Termékleírás

Savas, fényes cinkfürdő. Magas fényű és duktilis bevonat nagy áramsűrűségnél is, bórsavmentes változatban is elérhető

Termékleírás

Lúgos cink-nikkel eljárás. Fényes bevonatot képez függesztett- és dobáru esetén is; nagyon jó mélyszórás és réteg eloszlás; egyszerű, üzembiztos kezelés.

Termékleírás

Savas, fényes ónfürdő. Műszaki és dekor-ónozáshoz. Érintésbiztos és páraálló bevonat.

Cianidos cinkfürdő. Magas fényesség érhető el minden áramsűrűségnél. Függesztett és dobáru horganyzására is alkalmas.

Keménykróm-elektrolitok

Keménykróm-eljárás különösen nagy áramteljesítménnyel. Elérhető különböző katalizátorrendszerekkel.

Cikk Leírás
SAPHIR 25keménykróm-elektrolit, gyors kiválás, fluoridmentes, alkalmazásához platinával bevont titánanód szükséges.
SAPHIR 40keménykróm-elektrolit, gyors kiválás, fluoridmentes.